山东国产透镜代理，山东国产透镜代理公司

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中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平？

据光电所该项目的一个主要负责人所说，这台设备只是个原理机，跟市场上主流的ArF浸没式光刻机在视场、成品率、套刻精度以及产率等方面都没有可比性。该设备用于半导体芯片领域以替代投影光刻的可能性也是几乎没有的，但可以用于半导体芯片以外用不起投影光刻的纳米加工。这台样机设备可以对小批量、小视场（几平方毫米）、工艺层少且套刻精度低、低成品率、小衬底尺寸（4英寸以下）且产率低（每小时几片）的特殊纳米器件进行加工。

虽然这台设备只是一台原理机，在技术上还存在着局限，但对中国科研界来说的确是个重大进展。考虑到目前表面等离子体技术的水平，这台设备只可能做周期的线条和点阵，无法制作复杂的芯片所需的图形。以光电所现有的技术实力，芯片制造所需的超高精度对准技术，亦是无法实现的。所以，在短期内，这项技术是无法应用于半导体芯片制造的；现阶段的应用前景仅限光栅、光子晶体一类的周期性结构；不过这些器件本身也已相当重要，尤其在军事应用领域。

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这个问题得分几个方面说：

一、从制造能力上看，单次曝光能制造22nm芯片，多重曝光能制造10nm芯片，是先进水平，毕竟除了台积电、三星、英特尔、格罗方德，也没有谁了。

二、单从传统光源和控制技术上看差距不小，只有中等水平，毕竟用的只是365nm波长的紫外光，而传统光刻技术现在用于量产22nm、10nm芯片的光源是193nm波长的深紫外光，进一步则是不久后即将使用10~14nm波长的极紫外光。

三、如果从技术原理上说，那么我国这个是目前最牛的了，因为不同于传统光刻技术，这个技术通过激发表面等离子来大幅缩短波长以实现高精度光刻，理论上衍射产生的不良影响大幅下降，进一步发展将比传统光刻技术的极限更优秀，而且费用也会更低，毕竟几万十几万美元的紫外光源和上千万一个的极紫外光源成本区别大了去了，而且传统光刻更多重的曝光掩膜成本也更高的多；365nm波长的光实现单次22nm、多重曝光10nm，这是全球独一份。

理论上讲，中国的的光刻机成熟了要比进口的更先进，即便是目前还不成熟也能进入世界高端了，排在前几名没问题。

这个光刻机，另辟蹊径很好的解决了光刻机衍射斑点问题。相对于其它公司可以用更大的波长，获得更小的衍射光斑。可以用近紫外光365的波长，达到其它公司深紫外光极，限到一百多纳米波长才能产生的效果。目前可以做到衍射在22纳米内不受影响，可以做到切割10纳米以下的线宽。也就是可以完成芯片10纳米的工艺.如果工艺再加完善，经验在丰富些。如果不考虑成本，用到国外的极限紫外光的超短波长，一定衍射更小距离，取得更极限光刻工艺……@力通科技一点通 @新华网 @今日头条 @中国网直播 @游画 @农民小姚 @制造原理 @电气知识

什么水平？这是世界上首台用紫外线光源实现22纳米分辨率的光刻机，地位已经不能动摇了。

光刻机说白了就相当于是一个投影仪，只不过在这里光就是一把雕刻刀，将内容雕刻在要呈现的地方。这样的话如果太宽基本上就废了，但是太细又做不出来。

从这样的角度来看，这样的技术真的可以说是领先世界了，毕竟现在世界上也仅仅只有三星，英特尔还有台积电能做出。而我们仅仅用了七年的时间就完成了这样的壮举，实力不言而喻。

另一方面，光刻机的用处十分广泛，用紫外线光源做的光刻机，从资本角度来说会比世界上很多知名的光刻机技术要便宜。用起来成本更低，效果更好。

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